脱TMAHを実現するフォトレジストの弱アルカリ現像ソリューション
⾼い弱アルカリ溶解性・耐熱性を持つフォトレジスト向けフェノール樹脂添加剤を設計することができます。
既存フォトレジストへの配合により、毒性の⾼いTMAHを使⽤せずに⾼精細な微細パターンの作製を可能にします
原理
フェノール樹脂は弱アルカリ溶解性の⾼い⾻格を有し、感光剤との⾼い親和性を⽰します。これを既存フォトレジストに添加剤として配合することにより、Na2CO3⽔溶液のような弱アルカリ現像液での微細パターンの作製を可能にします。
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