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レジスト用

レジスト用フェノール樹脂として、弊社はクレゾールノボラック樹脂及び各種特殊ノボラック樹脂の提供が可能です。各ユーザー様のご要求性能に応じまして製品設計、製品提供を行いますので、御相談下さい。

製品の特徴

特徴的樹脂:

  • 高耐熱(Tg)、高感度(現像性)の両立
  • 低金属含有量
  • 高度な分子量/分子量分布デザイン

独自の分子設計・合成技術により、用途に応じた分子量/分子量分布制御が可能です。

用途

  • 半導体及びディスプレイ向けフォトレジスト用ポリマー
  • 多層材料(反射防止膜、平坦化膜)、絶縁膜材料
  • 印刷材料PS版用レジスト

製品ラインアップ

品名 タイプ 不揮発分
(%)
固形分Tg
(℃)
ADR
(Å/s)
Mw 溶剤 特徴
PR-30-40P 変性m/p
クレゾール
ノボラック
40 51-57 >9000 1500-2000 PGMEA
(乳酸エチル、
シクロヘキサノン
等に対応可能)
超高感度
PR-100L-50P 特殊クレゾール
ノボラック
(タンデム型)
50 119-124 590 1500-2000 高耐熱・
高解像度・
高感度
PR-100-50P 130-135 310 7800-8300
PR-100H-50P 143-148 100 15300-15800
PR-50 m/pクレゾール
ノボラック
40 92-98 900-1200 3000-6000 高解像度
PR-55 101-107 150-250 12000-15000
PR-56-1 90-96 100-110 13000-16000
PR-56-2 94-102 70-80 14000-17000
WR-101 フェノール
ノボラック
37-42 8200 900-1100 高感度
WR-102 38-53 7900 1400-1600
WR-103 59-64 6200 2000-2300
WR-104 77-82 3700 6600-7100

一部少量試作段階のものがありますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

この製品に関するお問い合わせ
電話でのお問い合わせ

精密化学品営業部(フェノール樹脂)

03-6733-5933

WEBでのお問い合わせ

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